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ハイブリッド洗浄装置事業

当社が目指すハイブリッド洗浄装置とは、画像処理による目と、メカトロニクス技術による高性能な制御技術により、薬液のみならず、ブラシ洗浄・圧水洗浄などを交え、これまでの洗浄機には無いコンパクト・高効率・ランニングコストを抑えた洗浄装置をご提案いたします。

主な製品

自動研磨装置
自動エッチング装置
塩ビ巻き技術

あらゆるご要望にお応えします

半導体洗浄装置においては、シリコンや、ガラス、化合物半導体、 MEMSなどの半導体デバイスの各製造工程で発生する副生成物に 対して、様々な薬液を使った洗浄を求められます。
また洗浄以外では、薬液によるウエハ表面を加工する需要もあります。
当社は今求められる装置及び、課題解決まで幅広くお客様のご要望にお応えいたします。

  • バッチ式、枚葉式、インライン式、多種多様な装置のご提案が可能
  • 自動、手動にも対応可能
  • 薬液供給システムなど、周辺機器にも対応可能

独自の制御技術により
高精度・自動化

SSフレーム製作・塗装・塩ビ加工・塩ビ溶接・メカ設計・電気設計・ソフトウェア設計・配線組み込み・装置組み込み・ 動作確認・立上げまで全てを内製で対応し、独自の制御技術により高精度化を実現いたします。
お客様のご要望にきめ細やかにカスタマイズ・即座に対応できる体制作りを心掛けております。

  • メカトロとロボット制御技術の融合
  • 画像処理技術による目とメカトロニクス技術による高性能な駆動
  • 人・パーツ・環境・装置への安全確保を基本方針として設計・製作

必要な部分のみ効率的に
エッチング式洗浄

生産性向上及び品質向上のため、効率の良いエッチング構造を実現。エッチング洗浄はワーク全体を薬液に浸し、洗浄するケースが多いなか、当社では必要最低限の洗浄したい部分のみ効率よくエッチングすることができるよう設計されております。そのためこれまでにない高品質でコンパクトな装置を実現しております。

  • 手作業では除去できていない汚れをエッチング洗浄にて除去
  • 洗浄に要する時間を大幅に短縮
  • 作業者による品質のばらつきを平準化
  • 薬液供給及び廃液ユニットを装置内部に収納

製造実績

薬液供給ユニット

・装置内で薬液(酸・アルカリ対応)を調合し、適量をコントロール供給
・薬液供給ユニットを単体制御
・薬液を切らせることなく、常に供給することを実現

[外観寸法] W1,200×D1,200×H2,025mm

スピン洗浄手動機

・ウエハー1枚ずつをエッチング、洗浄
・2チャンバーで処理が可能
・スクラブ部は、3および6インチウエハーを兼用処理が可能

[外観寸法] W1,625×D1,100×H2,100mm

バッチ式全自動洗浄装置

・カセットに入ったウエハーを自動搬送し、洗浄します
・φ8ウエハー対応
・自動供給・自動温調・乾燥(IPA V/D)付

[外観寸法] W8,320×D2,000×H2,000mm

バッチ式洗浄装置

・カセットに入ったウエハーを自動搬送し、エッチング、洗浄します
・SPM・SC-1・SC-2の3液処理タイプ/薬液タンク、回収タンクも装置内に収納
・自動調液・自動温調 ※乾燥は別置き

[外観寸法] W4,045×D1,485×H2,080mm

バッチ式エッチング装置

・最大φ600カーボンおよびグラファイトをエッチング・洗浄可能なバッチ式装置
・PVDF槽、石英槽、PP槽、SUS304槽で構成
・多彩なレシピ設定可能

[外観寸法] W7,600×D1,300×H2,300mm

LCDガラス現像装置

・G1~G8に対応可能なインライン設備
・スライドやスイングタイプの揺動シャワーメソッドで現像工程の効果を高めます
・乾燥工程にスリットタイプのエアーナイフを適用し、搬送毎分5,000mmに対応

[外観寸法] W8,000×D3,400×H2,300mm

CBD ガラス洗浄機

・プレシャワー、薬液洗浄、BJリンス、エアーナイフ、UVランプをコンパクトに配したインライン洗浄装置
・ロールブラシ、BJシャワー、UVランプを利用した3種の洗浄メソッドを搭載
・最大搬送速度:5,000mm/分

[外観寸法] W4,400×D2,400×H1,450mm

ソーラーガラス沈着システム

・沈着最適化実験のための装置で、多様なレシピが設定可能
・濃度管理と±0.2℃の槽内温度管理、攪拌・薬液循環システムによる均一な沈着結果を再現
・設定温度55~80℃

[外観寸法] W4,800×D1,450×H2,200mm